LCD RF plazma oprema
LCD RF plazma oprema
video
LCD RF Plasma Equipment
LCD  RF Plasma cleaner
LCD  RF Plasma machine
1/2
<< /span>
>

LCD RF plazma oprema

LCD RF plazma oprema je visoko{0}}zmogljiv sistem, razvit za površinsko obdelavo LCD, OLED in drugih materialov za ploščate zaslone. Zasnovan je tako, da izpolnjuje stroge zahteve sodobne proizvodnje, kjer sta stabilna obdelava in visoka pretočnost enako pomembni. Celoten sistem meri 880 mm × 790 mm × 1710 mm, z velikostjo vakuumske komore 450 mm × 450 mm × 450 mm. Vsaka elektrodna plošča je 410 mm × 430 mm in v enem ciklu je mogoče hkrati obdelati do pet plasti substratov.

Opis izdelkov

 

LCD RF plazma oprema je visoko{0}}zmogljiv sistem, razvit za površinsko obdelavo LCD, OLED in drugih materialov za ploščate zaslone. Zasnovan je tako, da izpolnjuje stroge zahteve sodobne proizvodnje, kjer sta stabilna obdelava in visoka pretočnost enako pomembni. Celoten sistem meri 880 mm × 790 mm × 1710 mm, z velikostjo vakuumske komore 450 mm × 450 mm × 450 mm. Vsaka elektrodna plošča je 410 mm × 430 mm in v enem ciklu je mogoče hkrati obdelati do pet plasti substratov.

 

S funkcionalnega vidika oprema zagotavlja uporabniku-prijazen HMI, ki omogoča neposredno prilagajanje ključnih procesnih parametrov, kot so RF izhodna moč, trajanje vakuumskega črpanja, posamezni segmenti obdelave in hitrosti pretoka plina. Te nastavitve je mogoče hitro spremeniti, da se prilagodijo različnim materialom ali procesnim zahtevam, kar nudi prilagodljivost in doslednost za industrijske operacije.

LCD RF Plasma Equipment inside

Sistem za dovajanje plina podpira tri neodvisne kanale in lahko deluje z dušikom (N₂), argonom (Ar), vodikom (H₂) in kisikom (O₂). Merilniki pretoka so kalibrirani v območju 0–200 ml/min, pri čemer natančnost nadzora ohranja nihanja pod 5 %. Vse glavne pnevmatske komponente dobavlja SMC, tesnjenje komore pa temelji na trpežnih tesnilih iz fluoro-kavčuka, ki zagotavljajo dolgoročno-stabilnost v zahtevnih okoljih. Plazma se ustvari s samo-prilagodljivim RF napajalnikom, ki deluje pri 13,56 MHz, z največjo močjo 1 kW, kar zagotavlja zanesljivo dostavo energije za enakomerno obdelavo.

 

Strukturno je komora izdelana iz visoko{0}}nerjavečega jekla 304, da zmanjšata oksidacijo in korozijo. Sistem uporablja zasnovo z dvojnim -tesnilom za celovitost vakuuma, medtem ko držala za bakrene elektrode na zadnji strani komore varujejo vodoravne plošče elektrod z več vijačnimi ključavnicami, kar izboljšuje stabilnost in prenos energije. Dodatni stranski nosilci dodatno okrepijo elektrode. Vakuumsko ravnovesje je bilo optimizirano: hitri{6}}sprostitveni ventil omogoča izenačitev tlaka v 5–10 sekundah, kar skrajša čas nedejavnosti in poveča produktivnost.

 

Za zagotovitev varnosti delovanja je stroj opremljen z alarmnim sistemom za napake. Zabeleži datum, čas in vzrok kakršnega koli neobičajnega dogodka, medtem ko se sproži samodejni izklop, da zaščiti komoro in obdelovance.

 

Kar zadeva uporabo, je ta oprema široko uporabljena za postopke polnjenja z obrnjenimi ostružki. Čiščenje s plazmo pred polnjenjem znatno izboljša površinsko aktivacijo, izboljša omočljivost in poveča oprijem med substratom in inkapsulantom. Posledično ne le izboljša kakovost embalaže, temveč tudi dolgoročno-zanesljivost naprednih sklopov zaslonov in polprevodnikov.

 

Priljubljena oznake: lcd rf plazma oprema, Kitajska lcd rf plazma oprema proizvajalci, tovarna

Pošlji povpraševanje

(0/10)

clearall